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Probing the Role of Interlayer Coupling and Coulomb Interactions on Electronic Structure in Few-Layer MoSe2 Nanostructures

机译:探讨层间耦合和库仑相互作用的作用   少量mose2纳米结构的电子结构

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摘要

Despite the weak nature of interlayer forces in transition metaldichalcogenide (TMD) materials, their properties are highly dependent on thenumber of layers in the few-layer two-dimensional (2D) limit. Here, we presenta combined scanning tunneling microscopy/spectroscopy and GW theoretical studyof the electronic structure of high quality single- and few-layer MoSe2 grownon bilayer graphene. We find that the electronic (quasiparticle) bandgap, afundamental parameter for transport and optical phenomena, decreases by nearlyone electronvolt when going from one layer to three due to interlayer couplingand screening effects. Our results paint a clear picture of the evolution ofthe electronic wave function hybridization in the valleys of both the valenceand conduction bands as the number of layers is changed. This demonstrates theimportance of layer number and electron-electron interactions on van der Waalsheterostructures, and helps to clarify how their electronic properties might betuned in future 2D nanodevices.
机译:尽管过渡金属二卤化氢(TMD)材料中的层间力性质较弱,但它们的性能高度依赖于少数层二维(2D)极限中的层数。在这里,我们提出结合扫描隧道显微镜/光谱学和GW理论研究双层石墨烯上生长的高质量单层和多层MoSe2的电子结构。我们发现,由于层间耦合和屏蔽效应,电子(准粒子)带隙是传输和光学现象的基本参数,当从一层变为三层时,其能带几乎降低了一个电子伏特。我们的研究结果清晰地描绘了随着层数的变化,电子波函数杂化在价带和导带谷中的演化。这证明了范德华结构上的层数和电子-电子相互作用的重要性,并有助于阐明在未来的2D纳米器件中如何调节其电子性能。

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